06.12.2016
Недавно отечественные ученые совместно с зарубежными коллегами сделали научное открытие в области наноэлектроники. Они разработали уникальную методику очистки графена, не оказывающую негативного влияния на его структуру, свойства.
Графеном именуется углеродная пленка, используемая в наноэлектронике. При выполнении каких-либо операций и во время производства различных устройств на нее наносится полимер. Потом его необходимо удалить из-за плохого воздействия на подвижность носителей заряда в графене. Ранее использовались такие способы:
- Воздействие химическими веществами;
- Термическая обработка;
- Очистка при помощи плазмы.
Они доказали эффективность на практике, однако качество графена при этом страдало. Пример: во время озонирования (необходимо в одной из технологий) разрушению поддавались не только остатки полимеров, но и сама углеродная пленка.
Чтобы избавиться от подобного побочного воздействия, ученые использовали спеченный карбид кремния. Как результат, графен выдерживает обработку озоном в течение 10 минут (в противовес 3-4 минутам, которые были ранее.
Работы по изучению и совершенствованию открытия еще ведутся. Изобретение ученых представляет ценность для будущей методики очищения углеродных пленок.